過程簡述
在液晶顯示器的生產過程中要多次涉及到清洗工藝，如所使用的玻璃基板在受入前必須清洗干凈，在濺鍍ITO導電膜之前還需要清洗干凈；除此之外，在涂敷光刻膠等之前都要對玻璃基板進行清洗，將1微米以上的顆粒以及所有的無機、有機污染物清洗干凈，保證工藝達到所需要的精度要求。
清洗液過濾以去除清洗過程中引入的雜質，達到清洗循環利用或排放標準；玻璃基板上的污染物，主要來自制造工藝過程以及玻璃基板的搬運、包裝、運輸、儲存過程，主要的污染物有塵埃粒子、纖維紙屑、礦物油和油脂等油垢、氧化硅等無機顆粒、制備加工過程的殘留物、水跡、手指印等。
主要清洗工藝
濕法
刷洗
高壓噴淋
浸泡式超聲波清洗
流水式高頻超聲波清洗
藥液噴淋
二流體清洗
超高壓微細粒子噴射清洗技術
功能水清洗技術
干法
紫外線照射清洗(UV清洗)
等離子體清洗
問題描述
清洗液中的污染物對玻璃基板性能造成不良影響
影響加工過程中玻璃基板表面與使用的各種材料之間的親和力
傷害玻璃基板松軟膜層
產品應用
高純水、超純水、去離子水的終端過濾
工藝用水處理，或作為高純水及多種模式過濾的前過濾
