半導體制造廢水

過程簡述
半導體集成電路是指在半導體基板上，利用氧 化、蝕刻、擴散等方法，將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上，以完成某一特定邏輯功能（例如：AND、OR、NAND等）， 進而達成預先設定好的電路功能。半導體的生產工藝要求高，涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種復雜工藝，生產半導體的過程會產生大量的廢水， 半導體廢水污染物種類多，成分復雜，通常包括多種重金屬廢水，有機廢水以及硅和氟廢水；同時半導體PCW系統的制程冷卻水須過濾處理以回用（見水處理應 用）。