過程簡述
在半導體產品制造過程中，由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對作為半導體行業血脈 的超純水系統更是高之又高。半導體行業超純水制造工藝可以概述為4個部分，分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分；在有些半導體廠中， 也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的，主要根據原水水質和產水水質對弱電解質的要求而定。
產品優勢
避免傳統離子再生耗費的大量酸堿，對環境更友好；
克服傳統離子設備再生周期相對較長；
超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施，利于節能減排；
節約水資源及半導體制造單位的運行成本。
產品應用
預處理部分
多介質過濾器+活性炭過濾器
粗過濾器+超濾裝置
反滲透部分
反滲透膜
電去離子部分
EDI模塊和 CEDI模塊
拋光混床 
