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    超純水處理

    2019-06-15
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    超純水處理
    詳細介紹:

    過程簡述
    在半導體產品制造過程中,由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性,對其配套設施提出了很高的要求,尤其對作為半導體行業血脈 的超純水系統更是高之又高。半導體行業超純水制造工藝可以概述為4個部分,分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分;在有些半導體廠中, 也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的,主要根據原水水質和產水水質對弱電解質的要求而定。
     
    產品優勢
    避免傳統離子再生耗費的大量酸堿,對環境更友好;
    克服傳統離子設備再生周期相對較長;
    超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施,利于節能減排;
    節約水資源及半導體制造單位的運行成本。
    產品應用
    預處理部分
    多介質過濾器+活性炭過濾器
    粗過濾器+超濾裝置
    反滲透部分
    反滲透膜
    電去離子部分
    EDI模塊和 CEDI模塊
    拋光混床
    燭式過濾機

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